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五金行業(yè)半導(dǎo)體廢水處理解決方案

概況說明 / General description

半導(dǎo)體廢水處理 Semiconductor wastewater treatment

所屬行業(yè)：五金行業(yè)廢水處理

設(shè)計(jì)水量： 50-5000m3/d

項(xiàng)目介紹：半導(dǎo)體廢水處理污染物種類多，成分復(fù)雜，通常包括多種重金屬廢水，有機(jī)廢水以及硅和氟廢水。其中含硅廢水很難脫硅，原始含硅廢水pH4.5，在TNA作用下，達(dá)到一定ORP電位值，硅膠表面吸咐的烴類表面活性劑類便會(huì)脫穩(wěn)，長(zhǎng)分子鏈斷裂。三人行研發(fā)的穩(wěn)脫劑能破壞硅膠穩(wěn)定性，促進(jìn)硅膠體脫穩(wěn)析出，從而能更好解決半導(dǎo)體廢水中重金屬問題。

工藝特點(diǎn)說明 / Description of process characteristics

01

占地面積小，整體造型美觀
02

操作方便，運(yùn)營成本低
03

免費(fèi)提供1對(duì)1定制方案
04

自主研發(fā)技術(shù)，30年行業(yè)沉淀，確保污水穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放
05

自主研發(fā)系統(tǒng)，投資性價(jià)比高
06

清污分流，分類分級(jí)處理

半導(dǎo)體廢水處理難點(diǎn) /Difficulties in semiconductor wastewater treatment

1、排放水量大

2、含有大量金屬離子

3、含有各種有機(jī)污染物

4、高濃度的極細(xì)懸浮顆粒

半導(dǎo)體廢水處理解決方案/ Solution of semiconductor wastewater treatment

1、半導(dǎo)體含氰清洗水的處理：含氰清洗水采用兩級(jí)堿性氧化法處理工藝。設(shè)置機(jī)械攪拌系統(tǒng)、PH控制系統(tǒng)、ORP控制系統(tǒng)以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統(tǒng)，通過在線pH/ORP值自動(dòng)控制藥劑的投加量。首先進(jìn)行一級(jí)氧化破氰，調(diào)節(jié)pH在10.5-11之同，ORP值300一4oo mv，反應(yīng)時(shí)間15～20min，將CN-氧化就為CN0-。二級(jí)氧化破氰時(shí)調(diào)節(jié)pH在7～8之間，ORP值600～650m'V,反應(yīng)時(shí)間15～20min，將CN0-完全氧化為CO2、N2，至此完成整個(gè)破氰過程。破氰后的含氰清洗水自流進(jìn)入一般清洗水作進(jìn)一步處理。

2、半導(dǎo)體一般清洗水廢水處理：一般清洗水C0D小于50mg/L，主要重金屬污染物為Ag、Cu、Ni，化學(xué)性質(zhì)相似，其氫氧化物的難度積都可以滿足排放標(biāo)準(zhǔn)。的要求，因此合并一起處理，同時(shí)利用共沉淀原理還可以降低用堿量。加減沉淀法需要注意考慮pH控制條件和金屬離子共存時(shí)相互作用的影響。各種金屬離子去除的最佳pH，一般控制pH為8.5～9，然后投加重捕劑、混凝劑和絮凝劑進(jìn)行混凝沉淀。沉淀上清液進(jìn)入暫存池，作為回用系統(tǒng)原水，進(jìn)入回用系統(tǒng)深度處理。

合作流程 / Cooperation process